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                      熱電阻蒸發式真空鍍膜機

                      *非標定制實驗室設備

                      熱電阻蒸發式真空鍍膜機,采用熱電阻蒸發鍍膜,配1~3組電阻蒸發源,結構設計緊湊,性能穩定可靠,自動化操作界面,操控簡單方便。廣泛應用于科研院所、實驗室制備金屬、導電薄膜、光學薄膜等,同時可選配離子源用于離子束清洗及輔助鍍膜能力;選配電子槍,擴展沉積薄膜類型應用。

                      特點

                      一體式系統框架設計

                      前開門真空腔體,方便取放基片、添加蒸發材料以及真空室的日常維護;

                      大口徑擴散泵作為主抽泵,真空極限高達3×10-4Pa;另可選分子泵或者低溫泵作為主抽泵,真空極限≤5×10-5Pa(2×10-8Torr);

                      標配冷阱,提高成膜質量;可選配深冷,縮短抽真空時間

                      可選配E型電子槍,4~8個坩堝

                      可選配離子源用于離子束清洗及輔助鍍膜能力。

                      可定制各類基板尺寸,加熱或水冷

                      采用Inficon膜厚監控儀在線監測和控制蒸發速率、膜厚

                      可沉積金屬;非金屬;化合物等薄膜材料

                      應用

                      科研與教學

                      主要指標

                      真空室:立式前開門,304不銹鋼;外壁通冷卻水,內襯不銹鋼防污板

                      真空系統:機械泵+擴散泵+冷阱(或分子泵、低溫泵)+(可選加羅茨泵)

                      極限真空:3.0E-4pa

                      恢復真空:大氣至4.0E-3pa≤15min

                      工作架:Φ640mm帽形工件盤等,扇形,行星,轉速可調

                      烘烤:上烘烤用進口管狀加熱器(下烘烤用碘鎢燈加熱);溫度350℃,可調可控

                      蒸發源:1~3組的電阻蒸發源

                      電子槍:選配電子束蒸發源,功率6Kv至10Kv

                      離子源:Φ12cm考夫曼(可選),

                      工藝氣體配置:1~3只進口MFC控制

                      膜厚控制:光學膜厚控制儀或光柵單色儀

                      石英晶控:國產或進口

                      電源:3相,380V,50Hz,約30K

                      其他選配:加熱型基臺、鍍膜機配套冷水機

                      典型應用


                      等離子輔助沉積Ag膜

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